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研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法

摘要

本发明公开了一种研究磁场对DNA二维折纸结构稳定性影响的方法,通过DNA折纸溶液所处磁场强度的改变,观察其形貌结构的方法和荧光分析其双链的完整性的方法。本发明基于扫描探针显微镜观察,简单易操作,形貌清晰;基于荧光分光光度计的双链键合情况分析灵敏度高且结果可靠;使用云母片构建界面,易于实现,且可探究的因素多,移植性强;也适用于其他可使用荧光染料材料的分析;本方法也适用于探究磁场对多种二维可插入荧光分子的平面材料的影响。

著录项

  • 公开/公告号CN109490579A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-03-19

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201811525249.9

  • 发明设计人 何丹农;王萍;陈益;张欣;金彩虹;

    申请日2018-12-13

  • 分类号G01Q60/24(20100101);G01Q60/00(20100101);G01Q30/20(20100101);G01N21/64(20060101);C12Q1/68(20180101);

  • 代理机构31208 上海东亚专利商标代理有限公司;

  • 代理人董梅

  • 地址 201109 上海市闵行区剑川路468号

  • 入库时间 2024-02-19 08:02:51

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-12

    实质审查的生效 IPC(主分类):G01Q60/24 申请日:20181213

    实质审查的生效

  • 2019-03-19

    公开

    公开

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