公开/公告号CN109472052A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-03-15
原文格式PDF
申请/专利权人 中国航天空气动力技术研究院;北京航天益森风洞工程技术有限公司;
申请/专利号CN201811186940.9
申请日2018-10-12
分类号
代理机构中国航天科技专利中心;
代理人庞静
地址 100074 北京市丰台区云岗西路17号
入库时间 2024-02-19 07:36:51
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2019-04-09
实质审查的生效 IPC(主分类):G06F17/50 申请日:20181012
实质审查的生效
2019-03-15
公开
公开
机译: 结构拓扑优化设计方法
机译: 汽相表位和汽相增长系统的支座以及汽相表位和汽相表位方法的支座的设计方法
机译: 胶片形成装置,一种用于清洁同一装置的方法以及一种计算机可读存储介质,能够通过安装与支座上部相邻的清洁喷嘴向支座上部提供清洁气体