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一种基于多孔材料为模板制备分子印记聚合物的方法

摘要

本发明公开了一种以可逆加成‑断裂链转移聚合所得多孔材料为模板制备分子印记聚合物的制备方法。以可逆加成‑断裂链转移聚合高内相乳液制备的多孔材料为模板,再与功能单体、交联剂、模板分子相互反应,制得最终产物。步骤如下:以苯乙烯和二乙烯基苯做油相,水做水相,搅拌成乳液。以可逆加成‑断裂链转移聚合的方式制备多孔材料。再将制备出的多孔材料作为模板制备分子印迹聚合物,经测试该方法制备出的分子印迹聚合物其物质吸收率较其他方法有一定程度的提升,且不用繁琐复杂的后处理,在药物提取,环境治理等方面有很大的潜在应用价值。

著录项

  • 公开/公告号CN109593159A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-09

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华东理工大学;

    申请/专利号CN201811388147.7

  • 申请日2018-11-21

  • 分类号C08F226/06(20060101);C08F222/14(20060101);C08F212/08(20060101);C08F212/36(20060101);C08J9/28(20060101);B01J20/26(20060101);B01J20/30(20060101);

  • 代理机构

  • 代理人

  • 地址 200237 上海市徐汇区梅陇路130号

  • 入库时间 2024-02-19 07:28:30

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-04-09

    公开

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