一种太阳能电池片生产中硅片的刻蚀去边工艺

摘要

本发明公开了一种太阳能电池片生产中硅片的刻蚀去边工艺，在刻蚀之前使用去离子水对硅片的各个表面进行冲洗，并对硅片进行表面干燥，硅片表面干燥方式为烘干或者甩干，刻蚀时将硅片的正面朝下放置与腐蚀溶液接触，腐蚀溶液为氢氟酸，并从硅片的上方向其背面喷射性质稳定的气体，喷射气体为氮气，在刻蚀去边结束之后，采用抛光液对硅片背面进行抛光。该太阳能电池片生产中硅片的刻蚀去边工艺，向硅片背面喷射氮气，能够对硅片背面氧化层起保护作用，在刻蚀结束后增加的抛光步骤，可以使硅片更加光滑，提高电池的转换效率。