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一种复合结构的金属氧化物半导体二极管

摘要

本发明设计功率半导体技术,特别涉及一种金属氧化物半导体二极管。本发明的有益效果为:在原专利提出的新型半导体二极管的基础上,添加了正电荷柱区以及P型埋层,正电荷柱区有利于在正向导通时感应出负电荷,产生多子电子的积累层,为多子电流的流动提供了一条低阻通路,降低正向导通压降;反向阻断时,P型埋层与N型漂移区之间引入了横向电场,辅助耗尽漂移区,使得横向电场分布更加均匀,纵向电场更加接近矩形分布,提高半导体二极管的反向耐压。解决了浅槽金属氧化物二极管在正向导通压降较低时反向耐压不高的问题,使得浅槽金属氧化物二极管在保证较低正向导通压降的同时,实现较高的反向耐压。

著录项

  • 公开/公告号CN109119489A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 电子科技大学;

    申请/专利号CN201810970629.7

  • 申请日2018-08-24

  • 分类号H01L29/861(20060101);H01L29/06(20060101);

  • 代理机构51232 成都点睛专利代理事务所(普通合伙);

  • 代理人孙一峰

  • 地址 611731 四川省成都市高新西区西源大道2006号

  • 入库时间 2024-02-19 07:11:44

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-01-25

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L29/861 申请日:20180824

    实质审查的生效

  • 2019-01-01

    公开

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