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阵列基板的制作方法、阵列基板以及显示装置

摘要

本发明涉及显示器技术领域,提出一种阵列基板的制作方法,该方法包括:形成一初始栅极,其中,所述初始栅极的边沿具有坡面;对所述初始栅极边沿的坡面以及所述坡面向内延伸的部分平面进行预设厚底的刻蚀,从而减小所述初始栅极坡面的坡角。本公开通过对所述初始栅极边沿的坡面以及所述坡面向内延伸的部分平面进行预设厚底刻蚀,减小了初始栅极边沿坡面的坡角,从而减小了初始栅极与层间绝缘层之间出现断裂或空隙的概率。

著录项

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/77 申请日:20180823

    实质审查的生效

  • 2019-01-08

    公开

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