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半导电石墨烯结构、形成此类结构的方法及包含此类结构的半导体装置

摘要

本申请揭示一种半导电石墨烯结构、形成此类结构的方法及包含此类结构的半导体装置。此类结构可包含石墨烯材料及所述石墨烯材料的至少一部分上方的石墨烯晶格匹配材料,其中所述石墨烯晶格匹配材料具有在所述石墨烯材料的晶格常数或键长的倍数的约5%内的晶格常数。所述半导电石墨烯结构可具有至少约0.5eV的能量带隙。本申请还揭示一种对石墨烯材料的能量带隙进行改质的方法,其可包含在石墨烯材料的至少一部分上方形成石墨烯晶格匹配材料,所述石墨烯晶格匹配材料具有在所述石墨烯材料的晶格常数或键长的倍数的约5%内的晶格常数。

著录项

  • 公开/公告号CN109166785A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-08

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 美光科技公司;

    申请/专利号CN201810775899.2

  • 发明设计人 罗伊·E·米迪;苏密特·C·潘迪;

    申请日2014-07-15

  • 分类号

  • 代理机构北京律盟知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人王龙

  • 地址 美国爱达荷州

  • 入库时间 2024-02-19 06:52:35

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-01

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L21/02 申请日:20140715

    实质审查的生效

  • 2019-01-08

    公开

    公开

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