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一种氮化镓基发光二极管外延片及其制作方法

摘要

本发明公开了一种氮化镓基发光二极管外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。外延片包括衬底、缓冲层、N型半导体层、有源层和P型半导体层,所述缓冲层、所述N型半导体层、所述有源层和所述P型半导体层依次层叠在所述衬底上,所述P型半导体层包括M个未掺杂的氮化钪铝层和(M+1)个P型掺杂的氮化镓层,M个所述氮化钪铝层和(M+1)个所述氮化镓层交替层叠设置,M为正整数。本发明通过在P型掺杂的氮化镓层中插入至少一个未掺杂的氮化钪铝层,氮化钪铝层和氮化镓层的交界面存在较强的二维空穴气,可以有效提升P型半导体层中空穴的横向扩展能力,降低LED的串联电阻,进而降低LED的正向电压,有利于LED在民用照明上的应用。

著录项

  • 公开/公告号CN109256445A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-01-22

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 华灿光电(浙江)有限公司;

    申请/专利号CN201810825977.5

  • 申请日2018-07-25

  • 分类号H01L33/14(20100101);H01L33/00(20100101);

  • 代理机构11138 北京三高永信知识产权代理有限责任公司;

  • 代理人徐立

  • 地址 322000 浙江省金华市义乌市苏溪镇苏福路233号

  • 入库时间 2024-02-19 06:49:52

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-02-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H01L33/14 申请日:20180725

    实质审查的生效

  • 2019-01-22

    公开

    公开

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