公开/公告号CN109357177A
专利类型发明专利
公开/公告日2019-02-19
原文格式PDF
申请/专利权人 江西欧迪伦光电有限公司;
申请/专利号CN201811031089.2
申请日2018-09-05
分类号
代理机构
代理人
地址 334100 江西省上饶市上饶经济技术开发区龙门路
入库时间 2024-02-19 06:47:53
法律状态公告日
法律状态信息
法律状态
2020-08-14
授权
授权
2019-04-30
实质审查的生效 IPC(主分类):F21K9/60 申请日:20180905
实质审查的生效
2019-02-19
公开
公开
技术领域
本发明涉及一种可以形成任意图案UV光斑的方法。
背景技术
随着紫外LED的产生和不断发展,近两年紫外LED的市场不断细分。与传统的汞灯相比,他具有很多优点,如紫外光源为冷光源,其产生热量少,冷却相对容易;装置的结构设计灵活,且使用寿命长等。在某些胶水固化领域、生物培养领域、医学领域等地方会需求在一个平面上形成一种特殊形状的UV光斑,例如有圆环形状、正方形状、椭圆形状以及其它一些复杂的图案。同时又需求UV光源和被照面之间没有其它干扰物存在,即从UV光源投出的光斑就可以形成各种特殊的图案,类似投影灯一样的概念。还有进一步要求特定平面上的UV光斑其辐射照度要尽量提高,以便于胶水快速固化。
发明内容
为了解决上述问题,本发明提供一种可以形成任意图案UV光斑的方法。
本发明中的一种可以形成任意图案UV光斑的方法,
S1:选择一种能够对LED光源成像的光学系统;
S2:在LED表面贴一层掩膜,掩膜中心区域镂空,其它地方不透光;
S3:镂空图案的尺寸由光斑成像的效果决定,具体换算方法如下:
S31:当光学系统的光轴垂直于被照面时,镂空的图案与被照面需求的光斑图案成比例缩小,缩小比例是光学系统的放大倍数的倒数,S’xy=nSxy,S’xy是光斑尺寸,Sxy是镂空图案尺寸,n是放大倍数;
S32:当光学系统的光轴倾斜于被照面时,镂空的图案与被照面需求的光斑图案成比例缩小,缩小比例横轴方向和纵轴方向不一样,横轴平行于被照面,纵轴垂直于被照面,横轴和纵轴的中心是LED发光芯片的中心,横轴的缩小比例是放大倍数的倒数,纵轴的缩小比例是放大倍数的倒数乘以纵轴与被照面夹角的余弦,笛卡尔坐标系中,S’x=nSx,S’y=nSycosθ,S’x、S’y是光斑尺寸,Sx、Sy是镂空图案尺寸,n是放大倍数,θ是光轴倾斜角。
上述方案中,所述光学系统靠近LED光源,尽量增大物方孔径角。
上述方案中,所述镂空图案位于LED发光芯片表面,不透光区域将不必要的光遮挡。
上述方案中,所述需求光斑尺寸较大时,采用多个UV光源一起照射。
上述方案中,所述被照面是一个曲面,在曲面和UV光源之间建立一个平面,此平面垂直于UV光源光学系统的光轴,将曲面上的光斑图案投影到平面上,投影方向为光轴方向,然后按比例缩小投影光斑,获得掩膜镂空图案。
本发明的优点和有益效果在于:本发明提供一种可以形成任意图案UV光斑的方法。
1、设计灵活、成本非常低,只需要在原有的光学系统上增加一个掩膜,就能设计出各种各样的UV光斑,满足各种差异化的胶水固化需求或者其它方面的需求。掩膜材质使用抗UV照射的材质,性质稳定,比如可以使用不锈钢片镭射切割,也可以使用铝板CNC机加工等各种方式获得;
2、计算方法简便有效,能计算不同倾斜角度、不同光斑形状、不同能量需求的UV光斑;
3、大型光斑可以组合照射,光斑位置、UV光源方位、LED上的掩膜形状可以分别计算;
4、能在一个平面上形成不同的光斑图案,图案形状可以复杂多变,也可以在曲面上形成不同的光斑图案。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的流程图;
图2为实施例一的成像示意图;
图3为实施例二的成像示意图;
图4为实施例三的成像示意图;
图5为实施例四的成像示意图。
具体实施方式
下面结合附图和实施例,对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案,而不能以此来限制本发明的保护范围。
如图1所示,本发明是一种可以形成任意图案UV光斑的方法。
S1:首先挑选一种能够对LED光源成像的光学系统,此光学系统靠近LED光源,尽量增大物方孔径角。
S2:在LED表面贴一层掩膜,掩膜中心区域镂空,其它地方不透光。镂空图案位于LED发光芯片表面,不透光区域将不必要的光遮挡。如此发光体不再是LED芯片,而是镂空图案。
S3:镂空图案的尺寸由光斑成像的效果决定,具体换算方法如下:
实施例一:S31:当光学系统的光轴垂直于被照面时,镂空的图案与被照面需求的光斑图案成比例缩小,缩小比例是光学系统的放大倍数的倒数,S’xy=nSxy,S’xy是光斑尺寸,Sxy是镂空图案尺寸,n是放大倍数。例如,某款点光源的放大倍数是8,LED发光芯片的尺寸是1*1mm,成像光斑的尺寸是8*8mm。以此为载体,假如光斑图案是一个6*6mm的“十”字图案,那么镂空图案就是一个0.75*0.75mm的“十”字图案,如图2所示。
实施例二:S32:当光学系统的光轴倾斜于被照面时,镂空的图案与被照面需求的光斑图案成比例缩小,缩小比例横轴方向和纵轴方向不一样。横轴平行于被照面,纵轴垂直于被照面,横轴和纵轴的中心是LED发光芯片的中心。横轴的缩小比例是放大倍数的倒数,纵轴的缩小比例是放大倍数的倒数乘以纵轴与被照面夹角的余弦。笛卡尔坐标系中,S’x=nSx,S’y=nSycosθ,S’x、S’y是光斑尺寸,Sx、Sy是镂空图案尺寸,n是放大倍数,θ是光轴倾斜角。例如,某款点光源的放大倍数是8,LED发光芯片的尺寸是1*1mm,成像光斑的尺寸是8*8mm。以此为载体,假如光斑图案是一个6mm直径的圆,光学系统光轴与被照面的夹角是45°,那么镂空图案就是一个0.53*0.75mm的椭圆,如图3所示。
实施例三:S33:有时候需求光斑尺寸较大,一个UV光源不足以覆盖,就需要多个UV光源一起照射。可以将光斑拆分成若干区域,每个区域由1个UV光源投射光斑,其LED表面的掩膜分别计算。
笛卡尔坐标系中,S’xi=niSxi,S’yi=niSyicosθi,S’xi、S’yi是光斑尺寸,Sxi、Syi是镂空图案尺寸,n是放大倍数,θi是光轴倾斜角,i是若干UV光源的序列码i=1,2,3……。所有UV光源投射的光斑组合到一起成为一个整体的光斑图案。例如,某款点光源的放大倍数是8,LED发光芯片的尺寸是1*1mm,成像光斑的尺寸是8*8mm。以此为载体,假如光斑是一个直径9mm的环形光斑,点光源光轴只能倾斜45°照射,则可设计成三个UV光源照射,分三个方向对称分布,每个光源负责360度圆环上的120度范围,如图4所示。掩膜图案形状计算方式参考上面的步骤b。
实施例四:S34:假如被照面不是一个平面,而是一个曲面,那么可以在曲面和UV光源之间建立一个平面,此平面垂直于UV光源光学系统的光轴,将曲面上的光斑图案投影到平面上,投影方向为光轴方向。然后按比例缩小投影光斑,可以获得掩膜镂空图案。如图5所示。如果是组合光斑,其计算步骤可以参考以上S32、S33步骤。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
机译: UV照射装置,抗蚀剂图案形成装置,UV照射方法和抗蚀剂图案形成方法
机译: 一种用于形成使用喷墨印刷的UV图案的方法,一种用于制造包括该方法的挡板的方法,以及通过该方法制造的挡板。
机译: 平板显示装置的图案形成装置以及使用该图案形成装置的图案形成方法,特别地,该图案形成装置与进行油墨涂层的UV硬化有关