一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置

摘要

本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置，该彩膜基板缺陷的分析方法，包括：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；获取修复设备从第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；对第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据差异数据确定过滤参数对应的过滤范围。本发明中，综合检出缺陷和修复缺陷的数据，确定用于过滤彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，可以采用该过滤范围对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间。

说明书

技术领域

本发明涉及彩膜基板缺陷检测技术领域，尤其涉及一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置。

背景技术

目前，在完成薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)彩膜基板的每一道工序后，通常都需要将彩膜基板送入自动光学检出设备(AOI)进行微观缺陷检测，经AOI检测出的具有微观缺陷的彩膜基板还需要送入修复(Repair)设备进行缺陷修复。AOI检出的微观缺陷是否全部修复直接影响彩膜基板的品质。在实际生产中，AOI检出的微观缺陷仅有30％左右需要修复，其余70％缺陷在修复工序中，要么不可见，要么不需要修复。但为了保证彩膜基板的品质，这70％的微观缺陷都需要在修复设备进行确认，造成时间浪费，严重影响产能。

为了降低确认不需要修复的缺陷的时间浪费，现有方法中，可以采用放宽AOI缺陷检出标准，或者在修复设备直接过滤部分缺陷，但是这两种过滤方式完全依靠工程师经验，过滤效果不可量化，AOI漏检风险及修复设备漏修风险均不可控，无法保证彩膜基板的品质。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法、检测修复方法及装置，综合检出缺陷和修复缺陷的数据，确定用于过滤彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，可以采用该过滤范围对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间。

为解决上述技术问题，本发明提供一种彩膜基板缺陷的分析方法，包括：

获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；

获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；

对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围。

优选地，所述过滤参数包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值中的至少一个。

优选地，所述过滤参数包括缺陷大小时，所述对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围的步骤包括：

根据所述第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据和所述第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据，确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布；

根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

优选地，所述确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布的步骤包括：

确定所有检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围，将所述第一取值范围划分成多个第一缺陷大小分区，其中，每一第一缺陷大小分区的长度相同；

确定每一所述第一缺陷大小分区中的检出缺陷的数量；

根据所述第一缺陷大小分区和对应的检出缺陷的数量，得到所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图；

对所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

确定所有修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围，将所述第二取值范围划分成多个第二缺陷大小分区，其中，每一第二缺陷大小分区的长度相同；

确定每一所述第二缺陷大小分区中的修复缺陷的数量；

根据所述第二缺陷大小分区和对应的修复缺陷的数量，得到所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图；

对所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

其中，所述根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围的步骤包括：

将所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线整合至同一坐标系中进行比较，根据比较结果得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，并根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

优选地，所述过滤参数包括缺陷灰阶值和缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值时，所述对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围的步骤包括：

确定所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布；

根据所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布，将所有灰阶划分为多个灰阶分区；

确定所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及，确定所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布；

根据所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，得到所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值与所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值的差异数据，并根据所述差异数据确定不同灰阶分区的灰阶差值对应的过滤范围。

本发明还提供一种彩膜基板缺陷的检测修复方法，包括：

获取用于检测彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，所述过滤参数的过滤范围由上述彩膜基板缺陷的分析方法得到；

根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复。

优选地，所述根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复的方法包括：

在自动光学检出设备上将所述过滤参数的过滤范围作为缺陷判定条件对彩膜基板进行光学检测，对不属于所述过滤范围内的缺陷进行检测，得到检出缺陷。

优选地，所述根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复的方法包括：

在修复设备判断自动光学检出设备得到的检出缺陷是否属于过滤范围，得到不属于所述过滤范围内的检出缺陷作为过滤后的检出缺陷，并对所述过滤后的检出缺陷进行修复。

本发明还提供一种彩膜基板缺陷的分析装置，包括：

第一获取模块，用于获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的参数信息；

第二获取模块，用于获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的参数信息；

确定模块，用于对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围。

优选地，所述过滤参数包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值中的至少一个。

优选地，所述过滤参数包括缺陷大小时，所述确定模块包括：

第一确定单元，用于根据所述第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据和所述第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据，确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布；

第二确定单元，用于根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

优选地，所述第一确定单元，用于确定所有检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围，将所述第一取值范围划分成多个第一缺陷大小分区，其中，每一第一缺陷大小分区的长度相同；确定每一所述第一缺陷大小分区中的检出缺陷的数量；根据所述第一缺陷大小分区和对应的检出缺陷的数量，得到所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图；对所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；确定所有修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围，将所述第二取值范围划分成多个第二缺陷大小分区，其中，每一第二缺陷大小分区的长度相同；确定每一所述第二缺陷大小分区中的修复缺陷的数量；根据所述第二缺陷大小分区和对应的修复缺陷的数量，得到所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图；对所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

所述第二确定单元，用于将所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线整合至同一坐标系中进行比较，根据比较结果得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，并根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

优选地，所述过滤参数包括缺陷灰阶值和缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值时，所述确定模块包括：

第三确定单元，用于确定所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布；

划分单元，用于根据所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布，将所有灰阶划分为多个灰阶分区；

第四确定单元，用于确定所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及，确定所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布；

第五确定单元，用于根据所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，得到所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值与所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值的差异数据，并根据所述差异数据确定不同灰阶分区的灰阶差值对应的过滤范围。

本发明还提供一种彩膜基板缺陷的检测修复装置，包括：

获取模块，用于获取用于检测彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，所述过滤参数的过滤范围由上述分析方法得到；

过滤模块，用于根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复。

优选地，所述彩膜基板缺陷的检测修复装置包括自动光学检出设备，所述过滤模块将所述过滤参数的过滤范围作为缺陷判定条件对彩膜基板进行光学检测，对不属于所述过滤范围内的缺陷进行检测，得到检出缺陷。

优选地，所述彩膜基板缺陷的检测修复装置包括修复设备，所述过滤模块判断自动光学检出设备得到的检出缺陷是否属于过滤范围，得到不属于所述过滤范围内的检出缺陷作为过滤后的检出缺陷，并对所述过滤后的检出缺陷进行修复。

本发明的上述技术方案的有益效果如下：

综合了自动光学检出设备的检出缺陷的过滤参数的数据和修复设备的修复缺陷的过滤参数的数据，对检出缺陷的过滤参数的数据和修复缺陷的过滤参数的数据进行比较，得到两者的差异数据，根据差异数据确定过滤参数对应的过滤范围，使得确定的过滤范围更加准确，使用该过滤范围可以对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间，提高了产能。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例的技术方案，下面将对本发明实施例的描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明实施例一的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图；

图2为本发明实施例二的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图；

图3为本发明实施例三的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图；

图4为本发明实施例的自动光学检出设备检出的检出缺陷的缺陷大小的分布图；

图5为本发明实施例的修复设备修复的修复缺陷的缺陷大小的分布图；

图6是图4中的检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和图5中的修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线的整合示意图；

图7为图6中的检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线做归一化处理之后的示意图；

图8为本发明实施例四的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图；

图9为本发明实施例的自动光学检出设备检出的检出缺陷和修复设备修复的修复缺陷在不同灰阶上的数量分布图；

图10为不同灰阶分区上检出缺陷和修复缺陷与对应的正常灰阶值的灰阶差值的示意图；

图11为采用灰阶差值的过滤范围对彩膜基板的缺陷进行检测或修复后实际检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布图；

图12是本发明实施例的彩膜基板缺陷的检测修复方法的流程示意图；

图13为本发明实施例的彩膜基板缺陷的分析装置的结构框图；

图14为本发明实施例的彩膜基板缺陷的检测修复装置的结构框图。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例的附图，对本发明实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本发明的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本发明的实施例，本领域普通技术人员所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。

请参考图1，图1为本发明实施例一的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图，该分析方法包括：

步骤11：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据；

例如，可以采用自动光学检出设备进行过缺陷检测并经修复设备修复过的一批彩膜基板作为样本。

所述过滤参数可以包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值等中的至少一个。所谓正常灰阶值是指与缺陷灰阶值对应的不存在缺陷的彩膜基板的相同区域的灰阶值。

步骤12：获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据；

步骤13：对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围。

本发明实施例中，综合了自动光学检出设备的检出缺陷的过滤参数的数据和修复设备的修复缺陷的过滤参数的数据，对检出缺陷的过滤参数的数据和修复缺陷的过滤参数的数据进行比较，得到两者的差异数据，根据差异数据确定过滤参数对应的过滤范围，使得确定的过滤范围更加准确，使用该过滤范围可以对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间，提高了产能。

下面对于不同类型的过滤参数，对本发明实施例中的彩膜基板缺陷的分析方法进行详细说明。

请参考图2，图2为本发明实施例二的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图，该分析方法包括：

步骤21：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据；

本发明实施例中，所述缺陷大小可以是指缺陷的面积，或者缺陷的其他尺寸信息。

步骤22：获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据；

步骤23：根据所述第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据和所述第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据，确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布；

步骤24：根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

本发明实施例中，对检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量进行统计，可以根据不同缺陷大小的数量分布，确定数量分布较少的缺陷大小，因为数量分布较少的缺陷大小说明有可能不需要进行修复，从而可以确定缺陷大小对应的过滤范围。

请参考图3，图3为本发明实施例三的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图，该分析方法包括：

步骤31：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据；

步骤32：获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据；

步骤33：确定所有检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围，将所述第一取值范围划分成多个第一缺陷大小分区，其中，每一第一缺陷大小分区的长度相同；

例如，所述第一取值范围可以是A<Size≤B，将第一取值范围划分为“B+1-A”个分区，每一分区分别为：A<Size≤A+1，A+1<Size≤A+2，……，B-1<Size≤B，其中Size为缺陷大小。

举例来说，第一数量个检出缺陷中缺陷大小的最小值为15，缺陷大小的最大值为140，检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围可以为15≤Size≤140，将15≤Size≤140划分为“140+1-15”个分区，每一分区分别为：15≤Size≤16，16<Size≤17，……，139<Size≤140。

当然，在本发明的其他一些实施例中，第一取值范围也可以不根据第一数量个检出缺陷中缺陷大小的最小值和最小值确定，例如，可以根据经验值确定。

本发明实施例中，将缺陷大小进行分区，可以有效减小计算量，当然，分区越细，得到的结果越准确。

步骤34：确定每一所述第一缺陷大小分区中的检出缺陷的数量；

步骤35：根据所述第一缺陷大小分区和对应的检出缺陷的数量，得到所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图；

请参考图4，图4为本发明实施例的自动光学检出设备检出的检出缺陷的缺陷大小的分布图。图4中，X轴表示缺陷大小(Size)，Y轴表示不同缺陷大小分区上的检出缺陷的数量。本发明实施例中，检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围可以为15≤Size≤140，将15≤Size≤140划分为25个分区，每一分区分别为：15≤Size≤20，20<Size≤25，……，135<Size≤140。图4中的柱状分布图能够体现自动光学检出设备实际的检出缺陷的大小分布。

步骤36：对所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

请参考图4中的黑色曲线，则为检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线，洛伦兹拟合是一种最接近实际生产数据的拟合，将柱状分布图转换成洛伦兹曲线的目的是，寻找自动光学检出设备实际检出缺陷的缺陷大小的分布峰值，便于在两个峰值之间寻找最优化参数值。

当然，在本发明的其他一些实施例中，也可以采用其他拟合方法，例如高斯拟合等。

步骤37：确定所有修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围，将所述第二取值范围划分成多个第二缺陷大小分区，其中，每一第二缺陷大小分区的长度相同；

所述第二取值范围例如可以是C<Size≤D，将第一取值范围划分为“D+1-C”个分区，每一分区分别为：C<Size≤C+1，C+1<Size≤C+2，……，D-1<Size≤D，其中Size为缺陷大小。优选地，所述第二取值范围与上述第一取值范围相同，即C等于A，D等于B。

举例来说，第二数量个修复缺陷中缺陷大小的最小值为15，缺陷大小的最大值为140，修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围可以为15≤Size≤140，将15≤Size≤140划分为“140+1-15”个分区，每一分区分别为：15≤Size≤16，16<Size≤17，……，139<Size≤140。

当然，在本发明的其他一些实施例中，第二取值范围也可以不根据第二数量个修复缺陷中缺陷大小的最小值和最小值确定，例如，可以根据经验值确定，或者，直接与第一取值范围取相同的范围。

步骤38：确定每一所述第二缺陷大小分区中的修复缺陷的数量；

步骤39：根据所述第二缺陷大小分区和对应的修复缺陷的数量，得到所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图；

请参考图5，图5为本发明实施例的修复设备修复的修复缺陷的缺陷大小的分布图。图5中，X轴表示缺陷大小(Size)，Y轴表示不同缺陷大小分区上的修复缺陷的数量。本发明实施例中，修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围可以为15≤Size≤140，将15≤Size≤140划分为25个分区，每一分区分别为：15≤Size≤20，20<Size≤25，……，135<Size≤140。图5中的柱状分布图能够体现修复设备实际的修复缺陷的大小分布。

步骤310：对所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

请参考图5中的黑色曲线，则为修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线，将柱状分布图转换成洛伦兹曲线的目的是，寻找修复设备实际修复缺陷的缺陷大小的分布峰值。

步骤311：将所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线整合至同一坐标系中进行比较，根据比较结果得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，并根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

请参考图6，图6是图4中的检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和图5中的修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线的整合示意图。图6中，X轴表示缺陷大小(Size)，Y轴表示不同缺陷大小分区上的检出缺陷和修复缺陷的数量。本发明实施例中，缺陷大小的取值范围为15≤Size≤140，将15≤Size≤140划分为25个分区，每一分区分别为：15≤Size≤20，20<Size≤25，……，135<Size≤140。

即，将图4中的检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和图5中的修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线整合至同一坐标系中进行比较，并根据比较结果确定缺陷大小对应的过滤范围，以图6为例，从图6中可以看出，缺陷大小在110之后的检出缺陷的数量和修复缺陷的数量均趋于0，因此，可以将缺陷大小的过滤范围定为大于110。

为了更形象的示出检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线的分布情况，本发明实施例中，还可以将检出缺陷和修复缺陷的总数量做归一化处理，请参考图7，图7为图6中的检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线做归一化处理之后的示意图，可以依据归一化处理后的检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线，设置缺陷大小的过滤范围，将数量较小的不需要修复的缺陷进行精确过滤。

上述实施例中，是以过滤参数包括缺陷大小为例对本发明实施例的彩膜基板缺陷的分析方法进行说明，下面以过滤参数包括缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值为例，对本发明实施例的彩膜基板缺陷的分析方法进行说明。

请参考图8，图8为本发明实施例四的彩膜基板缺陷的分析方法的流程示意图，该分析方法包括：

步骤81：获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的缺陷灰阶值的数据，以及每一检出缺陷的正常灰阶值；

步骤82：获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的缺陷灰阶值的数据，以及每一修复缺陷的正常灰阶值；

步骤83：确定所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布；

请参考图9，图9为本发明实施例的自动光学检出设备检出的检出缺陷和修复设备修复的修复缺陷在不同灰阶上的数量分布图。光学定义灰阶分为0～255阶，彩膜基板检出的缺陷都分布在这256个灰阶上。图9中X轴表示标准灰阶(Gray)值，Y轴表示在不同灰阶上检出缺陷和修复缺陷的数量。从图9中可以看出，检出缺陷和修复缺陷在各个灰阶分区上的数量分布，从而分析出哪个灰阶分区上缺陷需要过滤，对灰阶分区进行划分。

步骤84：根据所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布，将所有灰阶划分为多个灰阶分区；

举例来说，可以将所有灰阶(0～255)划分为四个分区，分区一的灰阶范围是：0＜Gray1≤60，分区二的灰阶范围是：60＜Gray2≤110，分区三的灰阶范围是：110＜Gray3≤140，分区四的灰阶范围是：140＜Gray4≤255。

当然，可以理解的是，设置的分区越多，可以实现越准确的过滤。

步骤85：确定所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及，确定所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布；

请参考图10，图10为不同灰阶分区上检出缺陷和修复缺陷与对应的正常灰阶值的灰阶差值的示意图，图10中，X轴表示标准灰阶，Y轴表示各灰阶分区上检出缺陷和修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值ΔGray。

步骤86：根据所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，得到所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值与所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值的差异数据，并根据所述差异数据确定不同灰阶分区的灰阶差值对应的过滤范围。

例如，根据图10中的检出缺陷和修复缺陷对应的ΔGray的变化，对每一划分的灰阶分区上的灰阶差值ΔGray的过滤范围进行设定，以将各分区不需要修复的缺陷分别过滤掉。

请参考下面的表1，表1是按照图10中的检出缺陷和修复缺陷对应的ΔGray的变化，对每一划分的灰阶分区上的灰阶差值ΔGray的过滤范围进行设定的结果：

表1

也就是说，对于分区0＜Gray1≤60，过滤范围是灰阶差值小于30，即仅对灰阶差值大于或等于30的缺陷进行检测或修复，对于灰阶差值小于30的缺陷不进行检测或修复。

采用本发明实施例中设置的每一的灰阶分区上的灰阶差值ΔGray的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复时，自动光学检出设备的检出缺陷的数量可以减少3098个，修复设备的修复缺陷的数量可以减少7个，也就是说以0.03％的缺陷漏检率，0.114％的缺陷漏修率，将缺陷总量降低了13.76％。

请参考图11，图11为采用灰阶差值的过滤范围对彩膜基板的缺陷进行检测或修复后实际检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布图。图11中X轴表示标准灰阶值，Y轴表示在不同灰阶上检出缺陷和修复缺陷的数量。比较图11和图9，可以看出，部分灰阶分区的检出缺陷和修复缺陷的数量明显降低，即将各分区不需要修复的缺陷被分别过滤掉，从而可以减少修复设备确认检出缺陷的时间，有效提高产能。

上述实施例中，过滤参数包括缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值，当然，在本发明的其他一些实施例中，过滤参数也可以仅包括缺陷灰阶值。

在本发明的其他一些实施例中，过滤参数也可以同时包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值，以使得得到的过滤参数的过滤范围更准确。

优选地，本发明实施例中，为了进一步提高过滤参数的过滤范围的准确度，还可以在采用该过滤参数的过滤范围对彩膜基板进行缺陷过滤后，计算缺陷过滤率、缺陷漏检率和/或缺陷漏修率等来来评估过滤范围是否合理，并获取最优过滤范围。

其中，缺陷过滤率、缺陷漏检率和缺陷漏修率可以采用下述公式计算得到：

本发明的上述实施例具有作业简单，容易实施的优点，采用该分析方法，可快速获取过滤参数的过滤范围。统计表明，在不影响彩膜基板品质的前提下，采用本发明实施例中的分析方法得到的过滤参数的过滤范围对彩膜基板的缺陷进行检测或修复后，可将彩膜基板的缺陷修复率由30％左右提升到60％以上，实现彩膜基板缺陷修复产能提升20％以上。

请参考图12，图12是本发明实施例的彩膜基板缺陷的检测修复方法的流程示意图，该检测修复方法包括：

步骤121：获取用于检测彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，所述过滤参数的过滤范围由上述任一实施例所述的彩膜基板缺陷的分析方法得到；

步骤122：根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复。

本发明实施例中，采用过滤参数的过滤范围可以将不需要修复的缺陷过滤掉，从而可以减少修复设备确认检出缺陷的时间，有效提高产能。

在本发明的一些实施例中，可以在自动光学检出设备上设置过滤参数的过滤范围，此时，所述根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复的方法包括：在自动光学检出设备上将所述过滤参数的过滤范围作为缺陷判定条件对彩膜基板进行光学检测，对不属于所述过滤范围内的缺陷进行检测，得到检出缺陷。

自动光学检出设备采用所述过滤参数的过滤范围作为缺陷判定条件对彩膜基板进行光学检测，得到检出缺陷时，可以减少自动光学检出设备检测出的检出缺陷的数量，从而可以减少修复设备确认检出缺陷的时间，有效提高产能。

在本发明的另外一些实施例中，可以在修复设备上设置过滤参数的过滤范围，此时，所述根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复的方法包括：在修复设备判断自动光学检出设备得到的检出缺陷是否属于过滤范围，得到不属于所述过滤范围内的检出缺陷作为过滤后的检出缺陷，并对所述过滤后的检出缺陷进行修复。

修复设备可以对过滤后的检出缺陷进行修复，不需要在对检出缺陷再进行修复确认，在修复设备一侧进行过滤优于在自动光学检出设备一侧进行过滤，因为在修复设备过滤不影响自动光学检出设备实际检出缺陷，能让自动光学检出设备更好地监控实际生产中缺陷的变化情况。

当然，在本发明的另外一些实施例中，也可以是自动光学检出设备首先按照现有的缺陷判定条件对彩膜基板进行光学检测，得到检出缺陷，然后，再采用所述过滤参数的过滤范围对检出缺陷进行过滤，得到过滤后的检出缺陷，并对所述过滤后的检出缺陷进行修复。

修复设备可以对过滤后的检出缺陷进行修复，从而可以减少修复设备确认检出缺陷的时间，有效提高产能。同时，自动光学检出设备也能够更好地监控实际生产中缺陷的变化情况。

请参考图13，本发明实施例还提供一种彩膜基板缺陷的分析装置，包括：

第一获取模块，用于获取自动光学检出设备从多个彩膜基板样本中检出的第一数量个检出缺陷的参数信息；

第二获取模块，用于获取修复设备从所述第一数量个检出缺陷中修复的第二数量个修复缺陷的参数信息；

确定模块，用于对所述第一数量个检出缺陷的过滤参数的数据和所述第二数量个修复缺陷的过滤参数的数据进行分析，得到所述检出缺陷的过滤参数的数据与修复缺陷的过滤参数的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述过滤参数对应的过滤范围。

本发明实施例中，综合了自动光学检出设备的检出缺陷的过滤参数的数据和修复设备的修复缺陷的过滤参数的数据，对检出缺陷的过滤参数的数据和修复缺陷的过滤参数的数据进行比较，得到两者的差异数据，根据差异数据确定过滤参数对应的过滤范围，使得确定的过滤范围更加准确，使用该过滤范围可以对不需要修复的缺陷进行过滤，节省了修复设备确认检出缺陷的时间，提高了产能。

本发明实施例中，优选地，所述过滤参数包括缺陷大小、缺陷灰阶值以及缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值中的至少一个。

在本发明的一些实施例中，所述过滤参数包括缺陷大小时，所述确定模块包括：

第一确定单元，用于根据所述第一数量个检出缺陷的缺陷大小的数据和所述第二数量个修复缺陷的缺陷大小的数据，确定所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布；

第二确定单元，用于根据所述检出缺陷和修复缺陷的不同缺陷大小的数量分布，得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

优选地，所述第一确定单元，用于确定所有检出缺陷的缺陷大小的第一取值范围，将所述第一取值范围划分成多个第一缺陷大小分区，其中，每一第一缺陷大小分区的长度相同；确定每一所述第一缺陷大小分区中的检出缺陷的数量；根据所述第一缺陷大小分区和对应的检出缺陷的数量，得到所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图；对所述检出缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；确定所有修复缺陷的缺陷大小的第二取值范围，将所述第二取值范围划分成多个第二缺陷大小分区，其中，每一第二缺陷大小分区的长度相同；确定每一所述第二缺陷大小分区中的修复缺陷的数量；根据所述第二缺陷大小分区和对应的修复缺陷的数量，得到所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图；对所述修复缺陷的缺陷大小的柱状分布图进行洛伦兹曲线拟合，得到所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线；

所述第二确定单元，用于将所述检出缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线和所述修复缺陷的缺陷大小的洛伦兹曲线整合至同一坐标系中进行比较，根据比较结果得到所述检出缺陷的缺陷大小的数据与修复缺陷的缺陷大小的数据的差异数据，并根据所述差异数据确定所述缺陷大小对应的过滤范围。

在本发明的另外一些实施例中，所述过滤参数包括缺陷灰阶值和缺陷灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值时，所述确定模块包括：

第三确定单元，用于确定所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布；

划分单元，用于根据所述检出缺陷和修复缺陷在不同灰阶上的数量分布，将所有灰阶划分为多个灰阶分区；

第四确定单元，用于确定所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及，确定所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布；

第五确定单元，用于根据所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，以及所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值在不同灰阶分区上的数量分布，得到所述检出缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值与所述修复缺陷的灰阶值与对应的正常灰阶值的灰阶差值的差异数据，并根据所述差异数据确定不同灰阶分区的灰阶差值对应的过滤范围。

请参考图14，本发明实施例还提供一种彩膜基板缺陷的检测修复装置，包括：

获取模块，用于获取用于检测彩膜基板缺陷的过滤参数的过滤范围，所述过滤参数的过滤范围由上述任一实施例中的彩膜基板缺陷的分析方法得到；

过滤模块，用于根据所述过滤参数的过滤范围，对彩膜基板的缺陷进行检测或修复。

本发明实施例中，采用过滤参数的过滤范围可以将不需要修复的缺陷过滤掉，从而可以减少修复设备确认检出缺陷的时间，有效提高产能。

在本发明的一些实施例中，所述彩膜基板缺陷的检测修复装置包括自动光学检出设备，所述过滤模块将所述过滤参数的过滤范围作为缺陷判定条件对彩膜基板进行光学检测，对不属于所述过滤范围内的缺陷进行检测，得到检出缺陷。

在本发明的另外一些实施例中，所述彩膜基板缺陷的检测修复装置包括修复设备，所述过滤模块判断自动光学检出设备得到的检出缺陷是否属于过滤范围，得到不属于所述过滤范围内的检出缺陷作为过滤后的检出缺陷，并对所述过滤后的检出缺陷进行修复。

除非另作定义，本发明中使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也相应地改变。

以上所述是本发明的优选实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本发明所述原理的前提下，还可以作出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本发明的保护范围。