一种铜钼合金膜的化学蚀刻用组合物

摘要

本发明公开了一种铜钼合金膜的化学蚀刻用组合物，以蚀刻用组合物的总重量为100%计，包含下述组分：过氧化氢5%～15%，有机酸0.5%～5%，过氧化氢稳定剂0.1%～5%，金属螯合剂2.0%～7.0%，蚀刻添加剂0.001%～0.5%，表面活性剂0.03%～0.1%，磷酸酯类物质0.005%～0.05，pH调节剂3.0%～7.0%，余量为去离子水。本发明化学蚀刻用组合物具有高效高精度蚀刻、使用寿命长、蚀刻过程中不会产生蚀刻残渣且反应条件温和，工作操作方便等优点。