Aluminium; Erbium Oxides; Comparative Evaluations; Deposition; Erbium Ions; Experimental Data; Ion Implantation; Plasma Simulation; Tables(data);
机译:基于高频短脉冲偏置电压的滤波直流金属等离子体离子注入和涂层沉积方法的发展
机译:使用脉冲等离子体的等离子体源离子注入沉积类金刚石碳膜
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机译:高频短脉冲等离子体浸没离子注入或沉积方法在气体,金属和气金属等离子体介电材料加工中的应用
机译:通过等离子源离子注入,在微电子应用中基于能量离子的金属氮化物扩散势垒沉积和注入。
机译:高能双峰脉冲激光诱导等离子体光谱技术用于无源调Q激光源和CCD检测器的金属表征
机译:等离子体源离子注入金属离子:阴极电弧等离子体产生和目标偏置脉冲的同步
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