Optical Systems; Interferometry; Ultraviolet optics; Lithography; Performance tests; Optics; Measurements;
机译:使用具有可变sigma的同步加速器曝光站对工程测试台架2光学元件进行基于打印的性能分析
机译:使用工程测试台架set-2光学元件在Advanced Light Source静态微场曝光站进行低于70 nm的极紫外光刻
机译:EUV工程测试台的当前状态
机译:珩磨极限紫外光系统测试的准确性:ETS-2投影光学器件的波长和可见光测量
机译:通过溅射和蒸发去除锂碎屑,用于EUV光学器件和应用。
机译:BESSY-II的用于紫外线和XUV反射和衍射光学的波长计量设施
机译:极端紫外线工程试验台SET-2光学的波长表征