Indium Antimonides; Chemical Vapor Deposition; Indium Arsenides; Crystal Growth; Hole Mobility; Impurities; Partial Pressure; Superlattices; Meetings; EDB/360601;
机译:ZrO2-SM2O3层在低温下使用MOCVD方法和减压
机译:InGaAsP-InP应变DFB激光器和电吸收调制器通过超低压选择区生长MOCVD的单片集成
机译:通过超低压选择性区域生长MOCVD与DFB激光器集成的串联电吸收调制器,可产生10 GHz光学短脉冲
机译:通过超低压选择性区域生长MOCVD与DFB激光器集成的串联电吸收调制器,可产生10 GHz光学短脉冲
机译:高压MOCVD反应器中InGaN材料和器件结构的生长
机译:通过脉冲压力MOCVD在锐钛矿单晶上诱导过程的纳米结构
机译:使用金属化学气相沉积(MOCVD)在低压下在低压下的Aln单层在蓝宝石上的生长