EDB/360603; Excitation; Hydrogen Transfer; Hydrogenation; Infrared Spectra; Meetings; Oxygen; Semiconductor Materials; Silicon;
机译:浅热供体深度剖面监测的直拉硅氮扩散
机译:高纵横比硅沟槽的轮廓控制。 Ⅱ。研究局部弯曲形成和消除这种影响的机制
机译:通过恒定信息深度下的X射线衍射应力分析测量α-fe基底上γ'-fe_4n_(1-x)层中的残余应力和无应变晶格参数深度分布
机译:来自Czochralski硅的氮气外扩散由浅热供体的深度剖面监测
机译:乳腺癌断层治疗:分形运动和浅深度剂量分布对PTV深度选择的影响
机译:开幕文章:使用哈迪亚锆石Ti-U-Th-Pb深度剖面从古代外星撞击中寻找热偏移
机译:通过激活硅中的热供体,快速简便地实现组织氧浓度图的方法。
机译:硅中的氢辅助热供体形成。