Chemical cleaning ; Semiconductors ; Band gaps ; Capacitance ; Capacitors ; Electrons ; Fabrication ; Low energy ; Metal oxide semiconductors ; Mosfet semiconductors ; Photoluminescence ; Reprints ; Room temperature ; Spectroscopy ; Stability ; Surface finishing ; Synchrotrons ; Voltage;
机译:器件质量Sb基化合物半导体表面:化学清洗的比较研究
机译:扫描电镜用于表征半导体(SMSC)-表面缺陷对N-WSE2和N-MOSE2层状化合物光化学行为影响的比较研究
机译:机械和化学方法对船用壳管式换热器进行表面清洁的比较研究
机译:用于化合物半导体量子器件的金属-半导体界面和半导体表面的控制
机译:聚硅烷聚合物基薄膜的化学气相沉积和表征及其在化合物半导体和硅器件中的应用。
机译:复合半导体的表面稳定性和生长动力学:从头开始的方法
机译:单晶衬底表面的比较研究。从介电物质到半导体和金属。 III-V复合半导体的表面平坦度。