Auger electron spectroscopy; Gallium arsenides; Sputtering; Cleavage; Density; Photoelectric emission; X ray spectroscopy; Electron diffraction; Intensity; Shape; Atoms; Semiconductors; Electron microscopes; Auger electrons; Photoelectrons; Mixtures; Two phase flow;
机译:(1)UHV切割后的化学计量外延锡(001)的螺旋钻电子光谱比较(2)AR〜+溅射蚀刻
机译:在俄歇电子能谱分析中使用低能离子对AlAs / GaAs超晶格进行溅射深度剖析时观察到的优先溅射
机译:亚稳态去激发光谱法测定Sb / GaAs(110)和H:GaAs(110)态的表面密度
机译:GaN和InP(110)上SiN_x:H的界面态密度
机译:高速GaAsSb-InP和InGaAs-InP单向载流子光电二极管的仿真与比较
机译:工程化的NarL蛋白–110-菲咯啉裂解剂可对合成的NarL位点进行位点特异性DNA切割
机译:Augeni / Cleaved GaAs(110)界面的XPS分析