Cryogenics; Gates(Circuits); Arsenates; Gallium; Growth(General); Operation; Reprints;
机译:用于直接耦合FET逻辑的新型伪InGaAs / AlGaAs SISFET和HIGFET结构
机译:退火对掺Si的Al0.24Ga0.76As / In0.15Ga0.85As / GaAs伪晶型高电子迁移率晶体管结构中光学性能的影响
机译:采用新颖的自对准TiPtAu / WN T栅极技术的0.2μm栅极长度的伪HIGFET,适用于高速数字和毫米波应用
机译:伪形AL0.3GA0.7AS / IN0.15GA0.85AS中的多管电子迁移率/ IN0.15GA0.85AS基于双量子井的FET结构
机译:AlGaAs / InGaAs伪晶高电子迁移率晶体管的击穿行为和优化。
机译:掺杂的自组装InAs / InGaAs / GaAs / AlGaAs量子点中应变相关的光吸收的理论研究
机译:栅极长度短的GaAs / AlGaAs / InGaAs伪变形MODFET的选择性反应离子刻蚀
机译:假晶InGaas / alGaas(ON Gaas)和InGaas / Inalas(Inp)mODFET结构的电子特性