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Diffusion of muons in metallic multilayers

机译:介子在金属多层中的扩散

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摘要

The development of the low energy muon beam at PSI opens the possibility of studying muon diffusion in artificially layered structures within the nm scale. Here, we report on first muon diffusion experiments on different Cr/x nm Au/Cr trilayers (x = 19,21, 30, 39) in the temperature range from 5 to 320 K. If the appropriate implantation energy is chosen, the initial muon implantation profile is centered within the non-magnetic All layer. Muons stopping in magnetic Cr or penetrating the Au/Cr interface by thermally activated diffusion immediately lose their spin polarization. The depolarization of the LE-muSR signal allows extraction of the time-dependent fraction of muons reaching one of the interfaces. (C) 2002 Elsevier Science B.V. All rights reserved. [References: 15]
机译:PSI中低能μ子束的发展为研究μ层内人工分层结构中μ子的扩散提供了可能性。在这里,我们报道了在5至320 K的温度范围内,在不同的Cr / x nm Au / Cr三层膜上(x = 19,21,30,39)进行的首次μ子扩散实验。如果选择合适的注入能量,则初始μ子注入轮廓位于非磁性All层内。停留在磁性Cr中或通过热活化扩散渗透到Au / Cr界面的介子会立即失去其自旋极化。 LE-muSR信号的去极化允许提取到达界面之一的介子的随时间变化的分数。 (C)2002 Elsevier Science B.V.保留所有权利。 [参考:15]

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