Hydrierung und Carbonylierung mit durch lonenstrahlverfahren hergestellten mono-und bimetallischen Schalenkatalysatoren

摘要

Die Ionenstrahl gestutzte BeSchichtung IBAD(Ion Beam Assisted Deposition)ist eine relativ junge,leistungsfahige Beschichtungsmethode,die herkommliche Dunnschicht-Abscheideverfahren(PVD-Verfahren,Physical Vapor Deposition)wie beispielsweise Verdampfen oder Sputtern in geeigneter Weise mit einem gleichzeitig oder alternierend durchgefuhrtem lonenbeschuss verbindet.Die Eigenschaften der so erzeugten Schichten hangen besonders von Art und Energie der Ionen,der lonenstromdichte,dem lonen-einfallswinkel,der Aufdampfrate,der Substrattemperatur und der Gute des Vakuums ab.Die lonenenergien liegen dabei ublicherweise in einem Bereich von 0,1 bis 200 keV.Mit diesem Verfahren konnen nahezu alle chemischen Elemente auf beliebigen Substraten wie Metallen,Keramik,Glas oder Kunststoff abgeschieden werden [l-3].