Fachbeitrag zur Erganzungsausbildung Produktionsmechaniker/in EFZ

摘要

Unter dem Begriff chemische Gasphasenabscheidung (engl. chemical vapour deposition, CVD) versteht man eine Gruppe von Beschichtungsverfahren, welche unter anderem bei der Herstellung von mikroelektronischen Bauelementen eingesetzt werden. An der erhitzten Oberflache eines Substrates wird aufgrund einer chemischen Reaktion aus der Gasphase eine Feststoffkomponente abgeschieden. Voraussetzung hierfur ist, dass fluchtige Verbindungen der Schichtkomponenten existieren, die bei einer bestimmten Reaktionstemperatur die feste Schicht abscheiden. Beschichtungen werden in der Elektronikindustrie angewendet (Waferoberflachen).