机译:通过脉冲激光沉积,磁控溅射和CVD沉积在微晶硅晶片上的铝薄膜的一致性
Aluminum; Complex surface; Conformity; Micro-patterned substrate; Plasma magnetron sputtering; Pulsed laser deposition;
机译:通过脉冲激光沉积,磁控溅射和CVD沉积在微晶硅晶片上的铝薄膜的一致性
机译:通过磁控溅射和脉冲激光沉积技术沉积的WB_x和W_yTi_(1-y)B_x薄膜
机译:通过组合磁控溅射和脉冲激光沉积技术沉积的薄WB_X和W_YTI_(1-Y)B_X薄膜
机译:使用脉冲激光烧蚀的A-SiC薄膜在室温下沉积使用脉冲激光烧蚀的石墨和磁阻溅射到钢基板上
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:磁控溅射与TiO2和BFCO薄膜的脉冲激光沉积相结合
机译:通过脉冲激光沉积和磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜