首页> 外文期刊>SID International Symposium: Digest of Technology Papers >Photosensitive Insulating Materials by Organic/Inorganic Hybrid Technologies as a Passivation Layer on TFT LCDs
【24h】

Photosensitive Insulating Materials by Organic/Inorganic Hybrid Technologies as a Passivation Layer on TFT LCDs

机译:通过有机/无机混合技术制成的光敏绝缘材料,作为TFT LCD上的钝化层

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Novel silica-based spin on glass (SOG) materials by organic/inorganic hybrid technologies have high photosensitivity, insulating performance, transparency, and heat resistance. These materials can make a passivation layer on TFT LCDs with only standard photolithography process and low heat treatment, and thus they provide a novel vacuum-less process on TFT LCDs.
机译:通过有机/无机杂化技术的新型基于二氧化硅的旋涂玻璃(SOG)材料具有很高的光敏性,绝缘性能,透明性和耐热性。这些材料仅通过标准的光刻工艺和较低的热处理就可以在TFT LCD上形成钝化层,因此它们在TFT LCD上提供了一种新颖的无真空工艺。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号