BEZPRADOWE OSADZANIE NANOCZASTEK MIEDZI NA POWIERZCHNI TlENKU GRAFENU

摘要

W artykule przedstawiono pionierskie wyniki badan dotyczace osadzania nanoczastek miedzi na powierzchni tlenku grafe-nu. Jako reduktor jonow Cu~(2+), wykorzystano dimetyloamino boran. Badania wykazaly, ze kluczowym czynnikiem majacym wplyw na proces osadzania nanoczastek na powierzchni tlenku grafenu, ma dobor warunkow eksperymentalnych, w tym wlasciwy dobor pH, oraz formy jonow miedzi.