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机译:大气压化学气相沉积法合成具有金属氯化物前体的硫化物,氧化物,硅化物和金属纳米线
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机译:应用大气压燃烧化学气相沉积工艺沉积金属氧化物薄膜的钴和锰羧酸盐
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机译:β-二酮酸酯为前驱体,通过低压金属有机化学气相沉积(MOCVD)法生长的氧化RB和氧化ADO高K介电薄膜的比较研究
机译:通过大气压金属有机化学气相沉积(AP-MOCVD)开发用于氧化锌薄膜生长的新型单源前驱体,用于微电子器件。
机译:金属有机化学气相沉积法制备间甲酚湿法催化氧化Fe2O3-ZSM-5
机译:通过施加大气压燃烧化学气相沉积工艺,钴和锰羧酸盐用于金属氧化物薄膜沉积