Ein neuer High-Tech-Resist verbindet hohes Auflosungsvermogen und Prozessstabilitat mit einem marktvertraglichen Preis. Die Nachfrage nach immer leistungsfahigeren Mikrochips erfordert stetig kleinere Strukturen bei der Herstellung integrierter Schaltkreise. Die Elektro-nenstrahllithographie bietet hier zusammen mit einem neu entwickelten Resist die Moglichkeit, Strukturen im Bereich von 10 nm herzustellen.
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