机译:通过中断沉积和原位热退火生长的高质量n型氮化铝镓薄膜
Doping; IDTA; Molecular beam epitaxy; Nitrides; Al0.6Ga0.4N;
机译:通过中断沉积和原位热退火生长的高质量n型氮化铝镓薄膜
机译:通过氮化镓的开放气氛退火生长的氧化镓(β-Ga_2O_3)薄膜的热导率中的尺寸效应
机译:脉冲激光沉积中的氮背景压力控制氮化镓和氮化铝薄膜的结构和表面形态
机译:生长后退火对脉冲激光沉积生长的氮化镓薄膜光学性能的影响
机译:原子清洁的氮化镓(0001)和氮化铝(0001)薄膜的制备,表征以及通过碘汽相生长沉积厚的氮化镓薄膜。
机译:厚度和热退火对原子层沉积氧化铝薄膜折射率的影响
机译:通过脉冲激光沉积制备立方氮化铝和氮化镓薄膜