机译:四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷和环己烷前体沉积的等离子体聚合低介电常数SiCOH薄膜的特性
Low dielectric constant; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Fourier transform infrared spectroscopy; Hardness; Elastic modulus;
机译:四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷和环己烷前体沉积的等离子体聚合低介电常数SiCOH薄膜的特性
机译:烃掺入对四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷和环己烷前体沉积的低介电常数SiCOH薄膜电性能的影响
机译:通过等离子体增强甲基环戊基硅氧烷和四甲基甲硅烷基甲硅烷硅氧烷的化学气相沉积的超级介电常数SiCOH薄膜和四(三甲基甲硅烷基)硅烷前体
机译:等离子体功率和沉积压力对等离子体增强化学气相沉积沉积的低介电常数等离子体聚合环己烷薄膜的影响
机译:低介电常数有机硅基薄膜的化学气相沉积。
机译:四(乙基甲基氨基)和四(二甲基氨基)前体在原子层沉积Hf0.5Zr0.5O2薄膜中铁电性能的比较研究
机译:四(三甲基甲硅烷氧基)硅烷用于在常压下通过PECVD沉积的SiO2纳米结构薄膜