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机译:使用无水氟化氢气体原位去除硅表面的天然氧化物
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机译:原位从具有UV激光器的非晶硅表面去除天然氧化物层,用于随后的层生长
机译:氟化氢蒸汽刻蚀去除纳米晶硅表面的氧化层
机译:使用超净无水氟化氢通过干法工艺选择性蚀刻天然氧化物
机译:一种新颖的原位抑制硅和砷化镓热氧化物解吸蚀刻过程中表面粗糙的方法。
机译:Pd上CO氧化中的氧化硅表面偏析:原位PEEMMS和XPS研究
机译:氧化硅膜在氧化硅膜中微晶硅膜的化学气相沉积中界面非晶层去除氢等离子体的影响