首页> 外文期刊>Elektronica: Praktijk + Techniek, with supplement: Elektra Data. >IMEC fabriceert als eerste een geheugencircuit in 22-nanometer chiptechnologie met EUV-lithoegrafie
【24h】

IMEC fabriceert als eerste een geheugencircuit in 22-nanometer chiptechnologie met EUV-lithoegrafie

机译:IMEC率先使用EUV光刻技术制造22纳米芯片技术的存储电路

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

IMEC is er als eerste ter wereld in geslaagd om met Extreem Ultraviolet Lithografie (EUV) een functioneel SRAM-geheugencircuit te maken in 22-nanometer chiptechnologie. Terwijl de industrie chips voor consumentenelektronica produceert in 45nm technologie, toont IMEC hiermee dat het aan de top staat met zijn onderzoek & ontwikkeling van de volgende generaties chiptechnologieen. EUV-lithografie wordt nog niet in productie gebruikt. Een van de eerste EUV-preproductietoestellen ter wereld staat nu op IMEC om onderzoek te doen op de verdere verkleining van chiptechnologie.
机译:IMEC是世界上第一个通过极紫外光刻(EUV)技术成功创建22纳米芯片技术的功能性SRAM存储电路的公司。虽然业界以45纳米技术生产用于消费类电子的芯片,但IMEC表明,它处于下一代芯片技术研发的最前沿。 EUV光刻尚未在生产中使用。 IMEC正在研究世界上第一批EUV试生产飞机之一,以进一步缩小芯片技术的规模。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号