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机译:电感耦合的HBr-He,Ar,N-2,O-2等离子体中TiSbTe薄膜的腐蚀特性及机理
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机译:HBr / Ar和Cl2 sub> / Ar电感耦合等离子体中TiO2 sub>薄膜的刻蚀特性及机理
机译:Ga掺杂的ZnO薄膜在电感耦合HBr / X(X = Ar,He,N_2,O_2)等离子体中的刻蚀特性及机理
机译:电子回旋共振H_2-Ar-SiH_4等离子体中a-Si:H薄膜的CVD特性及机理
机译:在卤基等离子体化学中对ha基金属氧化物薄膜进行构图的反应机理。
机译:六氟化硫气体和后退火处理对电感耦合等离子体刻蚀钛酸钡薄膜的影响
机译:O2 / Bcl3 / Ar血浆中Hfalo3膜膜蚀刻特性的研究