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Gallium-nitride technology targets power devices

机译:氮化镓技术以功率器件为目标

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摘要

International Rectifier plans this year to introduce a power-device technology employing gallium nitride on silicon. The company grows an epitaxial layer of gallium nitride on a conventional silicon wafer, and the gallium nitride forms the active devices in that layer,
机译:International Rectifier计划今年推出一种在硅上采用氮化镓的功率器件技术。该公司在传统的硅晶圆上生长了一层氮化镓的外延层,氮化镓在该层中形成有源器件,

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