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机译:四氟化硅,四氯化硅和四溴化硅碎片的光电离质谱研究
time-of-flight mass spectrometry; heats of formation; kinetic energy release; doubly charged ions;
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机译:通过负离子质谱法研究的光激发四氯化碳和四氯化硅中的负离子形成范围为12.4-31.0 eV
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机译:Chaudsen积分质谱法研究四氟化铈蒸发
机译:肽中非传统去质子化位点的负离子质谱研究:氨基酸类似物的气相酸性和模型磷酸肽的断裂。
机译:离子阱质谱系统的多级裂解和三重四极杆质谱的伪MS3表征某些(E)-3-(Dimethylamino)-1-arylprop-2-en-1-ones的比较研究
机译:离子阱质谱系统的多级碎片和三重四极杆质谱法的假脉络质谱特征在于(e)-3-(二甲基氨基)-1-芳基-2-烯-1-1-α-酮:比较研究
机译:硅与四氟化硅和四氯化硅反应的硅制备和纯度:热化学研究