首页> 外文期刊>Instruments and Experimental Techniques >A Forevacuum Pulse Arc-Discharge-Based Plasma Electron Source
【24h】

A Forevacuum Pulse Arc-Discharge-Based Plasma Electron Source

机译:基于前馈脉冲电弧放电的等离子体电子源

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

An arc-discharge-based electron source is described, which is designed for forming a pulsed wide-aperture electron beam in the forevacuum pressure range (4-15 Pa). At an accelerating voltage of 12 kV, a current of 80 A was extracted from the emitting surface with an area of 80 cm~2 in the submillisecond range of pulse durations. The current density distribution over the beam cross section is close to a Gaussian function, and the surface-averaged beam energy density in a pulse reached 10 J/cm~2.
机译:描述了一种基于电弧放电的电子源,该电子源被设计用于在前驱压力范围(4-15 Pa)中形成脉冲宽口电子束。在12 kV的加速电压下,在脉冲持续时间的亚毫秒范围内,从发射表面提取80 A的电流,面积为80 cm〜2。电子束横截面上的电流密度分布接近高斯函数,脉冲中的表面平均电子束能量密度达到10 J / cm〜2。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号