...
机译:等离子体物理气相沉积和氧自由基处理形成的铁电多层叠层MFIS结构装置的低压3 V操作
Ferroelectric multi-layer stack MFIS structure; crystallization of ferroelectric on SiO_2; oxygen radical treatment;
机译:等离子体物理气相沉积和氧自由基处理形成的铁电多层叠层MFIS结构装置的低压3 V操作
机译:H等离子体表面化学气相沉积法制备纳米晶-Si-点多层膜并评估结构和量子限制效应
机译:离子轰击辅助溅射和氧自由基处理在非晶SiO_2上形成大矫顽场的铁电薄膜形成技术,以进一步缩小铁电栅场效应晶体管存储器件的尺寸
机译:MFIS-FET记忆结构的数据保留时间随氮气和氧自由基照射处理而改善
机译:单层石墨烯的部分压力辅助生长由低压化学气相沉积种植:对高性能石墨烯FET器件
机译:通过化学气相沉积和H-等离子体表面处理制造纳米晶硅点多层,并评估结构和量子限制效应