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机译:声子传输的nano-system硅和锗硅电影与通用电气nanodots和超低的方法热导率
Osaka Univ, Grad Sch Engn Sci, 1-3 Machikaneyama Cho, Toyonaka, Osaka 5608531, Japan;
Shiga Univ Med Sci, Dept Fundamental Biosci, Otsu, Shiga 5202192, Japan;
Thermal Conductivity; Silicon germanium; INTERFERENCE EFFECTStransportPhononFilms;
机译:cap-Si / Si0.83Ge0.17 / Si(001)和epi-CoSi2 / Si0.83Ge0.17 / Si(001)结构中外延CoSi2和SiGe层的应变弛豫
机译:[邀请谈话] II型氧化物半导体与能带结构/ Si,Si,Ge(Si,SiGe,Ge)层压隧道场效应鞋架提案和操作演示
机译:在高Ge分数Si / Si_(1-x)Ge_x / Si(100)异质结构上使用B掺杂SiGe CVD形成具有超浅源极/漏极的0.12μmpMOSFET的制造
机译:Si / Ge Nanodot Supertrice用于Si基光伏
机译:低温(13.56 MHz)等离子体放电沉积的SiGe:H合金中使用H稀释终止Si和Ge原子的研究
机译:Electrical conductivity measurements to study the thermal treatment of amorphous Ge films.
机译:通过湿法氧化沉积在si(100)上的非晶siGe层产生的外延si(1-X)GE(x)薄膜的形成