...
首页> 外文期刊>クリ-ンテクノロジ-: クリ-ン化技術の専門誌 >レジスト除去用プロセスを装備した半導体や液晶露光マスク洗浄装置(その3)-アルカリ洗浄薬によるマスク劣化について
【24h】

レジスト除去用プロセスを装備した半導体や液晶露光マスク洗浄装置(その3)-アルカリ洗浄薬によるマスク劣化について

机译:半导体和液晶曝光面罩清洁装置,配备了抗抗药性过程(第3部分) - 由于碱性清洁药

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
           

摘要

この記事は、2011年12月号の同タイトル製品紹介に続く、(その3)である。今回は、アルカリ性マスク洗浄薬液によりマスクガラスやクロムパターンはいくらか溶解、エッチングされる。その程度について実験データで考察する。具体的には、ガラス面やクロムパターンへの侵食または、表面改質や透明度の劣化について検証してみた。このテーマは、マスクの寿命にかかわるので重要である。薬液選定、洗浄条件検討からライフを考慮したレシピ選定に参考になる。検証は、当社が推薦しているTRCシリーズ薬液で行い、当社とパーカーコーポレーションのラボで共同実施した。
机译:本文是(第3部分)在2011年12月发行中引入标题产品之后。 这次,面膜玻璃和铬图案被碱性面膜清洁药物溶解和蚀刻。 在实验数据中考虑该度。 具体而言,我们检查了玻璃表面或铬模式上的侵蚀,或透明度的表面修饰和恶化。 这个主题很重要,因为它涉及面具的生活。 考虑到化学物质和清洁条件的寿命,这对食谱选择很有帮助。 该验证是使用公司推荐的TRC系列化学品进行的,并在Parker Corporation Lab中与公司共同实施。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号