卓上型真空はんだリフロー装置／酸化膜還元装置、他

摘要

ギ酸／水素還元対応の卓上型真空はんだりフロー装置／酸化膜還元装置。主な特徴は、①フラックスレスはんだ(還元方式)に対応、②最大200×200mm基板に対応、③外形寸法:W430×D295×H290mm、④卓上型サイズながら最大到達温度400℃を実現、⑤大気リフロー、窒素ガスパージリフロー、真空リフローに標準対応、⑥ギ酸還元リフロー、フォーミングガス(水素＋窒素)リフローにオプションで対応可能、⑦ワーキングエリアをガスシールドしているためコンタミを気にするプロセスやその他のクリチカルなプロセスに使用可能、⑧下面からのIR(赤外)ヒータで加熱すため正確で高速な加熱を実現、⑨適切な真空ポンプとの組み合わせにより最大0.1Pa(10-3hPa)の真空環境を実現可能、など。