10年需要4001超え

摘要

テオス（テトラエトキシシラン·TEOS）の10年の需要量は、前年比5％増の410tで推移したとみられ、08年以降、年率数％の成長をみせ続けている。主な用途としては、シリコン半導体におけるCVDプロセスの層間絶縁膜材料のほか、結晶シリコンTFTにおけるプラズマCVDプロセスの酸化膜材料である。その液晶では、携帯電話やカーナビなど小型向けが中心となっている。用途別シェアをみると、半導体が60％、液晶が40％と推定される。