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机译:聚合物碳氮化物CVD生长薄膜的实验与理论研究及其结构
Univ Valladolid ETSI Telecomunicac Dept Teoria Senal &
Comunicac &
IT Paseo Belen 15 Valladolid 47011 Spain;
2Dto3D Srls R&
D Dept Via Revalanca 5 I-12036 Revello Italy;
Univ Vigo Dept Teoria Senal &
Comunicac ETSE Telecomunicac Vigo 36310 Spain;
2Dto3D Srls R&
D Dept Via Revalanca 5 I-12036 Revello Italy;
Univ Zaragoza Inst Invest Ciencias Ambient IUCA EPS Carretera Cuarte S-N Huesca 22071 Spain;
Univ Vigo Dept Teoria Senal &
Comunicac ETSE Telecomunicac Vigo 36310 Spain;
Univ Nacl Autonoma Mexico Inst Invest Mat IIM Dept Reol &
Mecan Mat Apdo Postal 70-360 Mexico City DF Mexico;
Carbon nitride; Thin-film; Semi-empirical methods; PM6; Chemical vapor deposition;
机译:还原气氛下CVD生长的氮化钛硅薄膜的力学性能研究
机译:通过等离子体增强化学气相沉积的多相结构氢化非晶硅氮化膜薄膜
机译:六方氮化硼衬底上CVD生长的石墨烯薄膜的清洁和无聚合物转移
机译:通过光谱相调节椭圆形测定法通过ECR辅助CVD种植的多晶金刚石薄膜层状结构研究
机译:碳纳米管增强聚合物薄膜的弹性特性的理论和实验研究。
机译:N2:(N2 + CH4)比在低温等离子体增强化学气相沉积法生长疏水纳米结构氢化氮化碳薄膜中的作用研究
机译:薄二嵌段共聚物薄膜的自由表面-表面浮雕结构的形成和生长的实验和理论研究:表面浮雕结构的形成和生长的实验和理论研究
机译:最佳超导薄膜隧穿器件的理论和实验研究及其在EHF最终报告中的应用,1968年2月1日至3月30日