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机译:溅射阈值附近的CO和MO纳米薄膜的离子等离子体溅射
Russian Acad Sci Valiev Inst Phys &
Technol Yaroslavl Branch Univ Skaya St 21 Yaroslavl 150007 Russia;
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inductively coupled plasma; low-energy sputtering; sputtering yield; ion current density; self-bias potential; refractometric method; sputtering threshold;
机译:多组分薄膜离子-等离子体溅射沉积过程中溅射原子传输的三维蒙特卡洛模拟
机译:Si / SiO2和C面蓝宝石基板上的DC溅射Mo薄膜硫化的MOS2薄膜
机译:通过反应高功率脉冲磁控溅射溅射MOS_X薄膜的氮掺杂
机译:通过脉冲DC溅射Mo薄膜的受控硫化通过控制硫化的MOS_2的生长
机译:使用不平衡磁控溅射制造适用于薄膜晶体管的掺镓ZNO薄膜。
机译:溅射沉积的MoS2薄膜的生长结构和稳定性
机译:射频磁控溅射钼薄膜的电学,形态学和结构特性,用于薄膜光伏太阳能电池
机译:NF3气体混合物中溅射mo和mosi2薄膜的等离子体蚀刻