...
机译:偏压对混合溅射系统制备的Nb-DLC膜微观结构和性能的影响
Pusan Natl Univ Global Frontier R&
D Ctr Hybrid Interface Mat Busan 46241 South Korea;
Huizhou Univ Guangdong Prov Key Lab Elect Funct Mat &
Devices Huizhou 516007 Peoples R China;
Pusan Natl Univ Global Frontier R&
D Ctr Hybrid Interface Mat Busan 46241 South Korea;
Anhui Univ Technol Sch Mat Sci &
Engn Maanshan 243002 Peoples R China;
Anhui Univ Technol Sch Mat Sci &
Engn Maanshan 243002 Peoples R China;
Pusan Natl Univ Global Frontier R&
D Ctr Hybrid Interface Mat Busan 46241 South Korea;
Nb-DLC films; Bias voltage; Microstructure; Wettability; Mechanical properties;
机译:偏压对双胞胎术反应高功率脉冲磁控溅射制备的Al2O3薄膜微结构和光学性能的影响
机译:衬底的偏置电压极性对磁控溅射制备的Ni膜的织构,微观结构和磁性的影响
机译:偏压对混合离子束系统沉积含铝类金刚石碳膜微结构和性能的影响
机译:偏压对单靶磁控溅射制备的CRN涂层微结构和力学性能的影响
机译:金属有机沉积(MOD)技术制备的富锆的铅(x(x)钛(1-x))氧(3)薄膜的微观结构和性能。
机译:磁控溅射制备CrNx / Ag多层膜的微观结构和力学性能
机译:应用偏压对Ti的组成,结构和性能的影响:Si编码的A-C:H磁控溅射膜的H.
机译:通过mOCVD和RF溅射制备的srTiO(sub 3)(100)上异质外延pb(Zr(sub 0.35)Ti(sub 0.65))O(sub 3)/ srRuO(sub 3)多层薄膜的结构和性质