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机译:最小化金属辅助化学蚀刻中的隔离催化剂运动,用于硅纳米孔阵列的深沟槽
Natl Univ Singapore NUS Grad Sch Integrat Sci &
Engn 28 Med Dr Singapore 117456 Singapore;
Natl Univ Singapore Dept Elect &
Comp Engn 4 Engn Dr 3 Singapore 117583 Singapore;
Natl Univ Singapore NUS Grad Sch Integrat Sci &
Engn 28 Med Dr Singapore 117456 Singapore;
ASTAR Inst Mat Res &
Engn 2 Fusionopolis Way Singapore 138634 Singapore;
ASTAR Inst Mat Res &
Engn 2 Fusionopolis Way Singapore 138634 Singapore;
Natl Univ Singapore Dept Elect &
Comp Engn 4 Engn Dr 3 Singapore 117583 Singapore;
ASTAR Inst Mat Res &
Engn 2 Fusionopolis Way Singapore 138634 Singapore;
metal-assisted chemical etching; silicon; isolate catalyst; van der Waals force; Raman analysis; porous silicon;
机译:最小化金属辅助化学蚀刻中的隔离催化剂运动,用于硅纳米孔阵列的深沟槽
机译:使用纳米多孔催化剂的金属辅助化学蚀刻在高纵横比的硅上进行均匀的垂直沟槽蚀刻
机译:金属辅助化学蚀刻综合研究Au Nano-inah作为硅纳米线阵列制造中的催化剂
机译:钨作为CMOS兼容催化剂,用于硅的金属辅助化学蚀刻,以创建2D和3D纳米结构
机译:半导体纳米制剂通过金属辅助化学蚀刻:三元III-V合金和替代催化剂
机译:金属辅助化学蚀刻的无光刻技术制造硅纳米线和纳米孔阵列
机译:金属辅助化学蚀刻的无光刻技术制造硅纳米线和纳米孔阵列