首页> 外文期刊>Электронная Обработка Материалов >Микро- и макрораспределение скоростей локального электроосаждения меди и серебра при использовании толстых полимерных масок
【24h】

Микро- и макрораспределение скоростей локального электроосаждения меди и серебра при использовании толстых полимерных масок

机译:使用厚聚合物面罩时,铜和银局部电沉积速度的微观和大规模化

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Показано, что при осаждении меди из стандартного электролита в широком интервале значений скоростей электроосаждения и толщин электроосажденных слоев (L ~ 0,13 - 0,5, где L - нормированная на толщину маски толщина электроосажденного слоя) наблюдается равномерность микро- и макрораспределения. В случае электроосаждения серебра из комплексных электролитов равномерность макрораспределения наблюдается только для малых толщин электроосаждаемых слоев (L ~0,13-0,35). При больших толщинах равномерность микро- и макрораспределения определяется гидродинамическими условиями. Показано, что толстая маска играет роль "выравнивающего агента", обеспечивающего равномерность распределения скоростей обработки.
机译:结果表明,当铜在宽范围的电沉积速度值和电沉积层的厚度值中从标准电解质中沉淀(L〜0.13-0.5,其中L是电动厚度和电镀层的厚度。 ),观察到微观和宏突发。在从复合电解质的银电沉积的情况下,仅针对小厚度的电层观察到大rossroperation的均匀性(L〜0.13-0.35)。对于大的厚度,微观和大圆体的均匀性由流体动力学条件决定。结果表明,厚掩模起到“平整剂”的作用,这确保了处理速率的均匀分布。

著录项

获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号