首页> 外文期刊>Научное приборостроение >КОНТРОЛЬ ИЗМЕНЕНИЙ РАБОТЫ ВЫХОДА И ПРОЗРАЧНОСТИ ПОТЕНЦИАЛЬНОГО БАРЬЕРА МОНОКРИСТАЛЛОВ W(100) И GaAs(100) В ОБЛАСТИ ПОКРЫТИЙ СУБМОНОСЛОЙНОГО
【24h】

КОНТРОЛЬ ИЗМЕНЕНИЙ РАБОТЫ ВЫХОДА И ПРОЗРАЧНОСТИ ПОТЕНЦИАЛЬНОГО БАРЬЕРА МОНОКРИСТАЛЛОВ W(100) И GaAs(100) В ОБЛАСТИ ПОКРЫТИЙ СУБМОНОСЛОЙНОГО

机译:监测单晶的单晶W(100)和GaAs(100)的潜在屏障的输出和透明度的操作变化

获取原文
获取原文并翻译 | 示例
       

摘要

Продемонстрирована высокая чувствительность метода задерживающего потенциала Андерсона к изменению степени покрытия поверхностей твердых тел адсорбатом субмонослойного диапазона. На примере поэтапного удаления естественного окисла с поверхностей монокристаллов W(100) и GaAs(110) отмечены очевидное сходство и существенные различия в изменениях вольт-амперных характеристик тока медленных моноэнергетических электронов, проходящих из вакуума в металлы и полупроводники.
机译:Anderson延迟潜在方法的高灵敏度被证明于亚单核范围的固体吸附剂的涂层表面的变化。 使用从单晶W(100)和GaAs(110)的表面的分阶段除去天然氧化物的实例,显而易见的相似之处和在金属中通过真空真空的电压特性的变化变化的显着差异并注意到半导体。

著录项

相似文献

  • 外文文献
  • 中文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号