EBリソグラフィの特徴とEB装置開発の現状：EB直接描画のメリットとその適用規模の拡大をめざしたEB装置開発

摘要

フォトリソグラフィにおけるマスク価格の高騰やターン·アラウンド·タイムの増加を契機に、先端デバイスの試作や少量生産手段として、EB直接描画技術に対する期待が高まっている。本稿ではEB直接描画のメリットと、その適用規模拡大を目指した装置開発の現状について紹介する。