次世代半導体洗浄技術：超音波洗浄の原理と洗浄均一化、ダメージレス手法

摘要

半導体における超音波洗浄対象は、微粒子洗浄が主である。微粒子洗浄をミクロな視点でみれば、反発力が引力を上回れば付着·凝集を防ぐことができる。 引力はファンデルワールスカと呼ばれる分子間力であり、分子間距離の7乗に反比例する。 粒子は、固定層そして拡散層の内側の一部を伴って移動すると推定され、この移動が起こるずり面の電位であるゼータ電位は、液性をPH値で制御でき、反発力を高めることができる。 しかしながら、この反発力だけでは、微粒子を除去できず、何らかの物理的エネルギーで剥離のきっかけが必要となる。 物理的エネルギーの発生ツールの一つとして、超音波が使われる（図1）。