半導体ケミカル汚染の現状と課題：クリーンルーム内ケミカル汚染物測定法の最近の話題－ITRSロードマップとミニエンバイロメント

摘要

最近の半導体製造分野においては製造する製品の歩留まり管理は益々重要となっている。 微粒子汚染の管理はもちろhのこと、クリーンルーム内のケミカル汚染物質（以下分子状汚染物質；Air Borne Molecular Contaminants；AMC、表面汚染物質；Surface Molecular Contaminants；SMCと略す）においても、フォトリソグラフィー工程に代表されるようにAMC、SMCの制御は必要不可欠となっている。 本稿ではITRS2005について簡単に解説するとともに（本稿が発刊されるころにはITRS2006アップデート版が出ているであろう）、現状のAMC、SMCの測定法について述べ、ミニエンバイロメントシステムに代表される最近のAMC、SMC測定法と動向を紹介する。