特集：明日のプロセスガス制御技術への挑戦－進化する流量計測·制御－コリオリ式Quantimによる超微小流量気体·液体計測制御への挑戦

摘要

マスフロー·コントロー·ラの国産化が始まっておよそ30年、各マスフローメーカは各々の時代のプロセス要求に応えるべく多くの製品を生み出してきた。 プロセスの再現性·繰り返し性と制御の安定性が優先されるなか、それまではエラストマーシールが使われるのが当然であったマスフローコントローラのなかからメタルシールが生まれ、特に半導体プロセス制御のクリーン化要求に大きなカを貸すことになっていった。 その後もマスフローコントローラは、半導体製造装置の小型化要求に応えるべくその面間を106 mmと変え、さらには集積化へ向かっていった。 しかしながら、プロセスは更なる微細へと加速し、マスフローコントローラは、これにも対応すべくDigital機能を備えることにより、高精度流量制御を実現していった。