東北大学 未来情報産業研究館－スーパークリーンルーム：フラクチュエーションフリーファシリティ(Fluctuation Free Facility)

摘要

半導体集積回路(LSI)の微細加工技術は配線の幅が100ナノメータになろうとしている。 微細製造技術だけでなく、製造環境（クリーンルーム）、各種インフラューティリティ（電力、ガス、純水、薬液、冷却水など）も必然的に超高品質を要求される。 従来のクリーンルームでは管理する項目は単に温湿度と塵埃（粒子径0.3～0.5μm）や人の汗から出てくるナトリウムであったが、酸性ガス、塩基性ガス、ドーパソト成分の抑制に加え、有機物成分についてはppb、pptのオーダで管理、制御し分子レベルの化学汚染対策が不可欠となってきた。 当然、ウエーハに直接触れるガス、純水や薬液はさらに超高品質を要求される。